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工業(yè)純水設(shè)備
反滲透純水設(shè)備采用全自動(dòng)控制方式，減少人為失誤操作對(duì)設(shè)備帶的影響。預(yù)處理系統(tǒng)中采用還原系統(tǒng)的設(shè)計(jì)解決余氯過(guò)高對(duì)反滲透膜產(chǎn)生的不可修復(fù)的影響。反滲透膜選型上采用原裝進(jìn)口反滲透膜，使用壽命可達(dá)3年，出水電導(dǎo)率低于5us。泵選用全不銹鋼材質(zhì)南方泵業(yè)或者進(jìn)口的格蘭富泵，運(yùn)行噪音低，使用壽命長(zhǎng)。我們采用陶氏公司專(zhuān)業(yè)的設(shè)計(jì)軟件，回收率大于到65%以上。自動(dòng)化程度高、操作簡(jiǎn)單、水質(zhì)較穩(wěn)、運(yùn)營(yíng)成本低等特點(diǎn)深受好評(píng)。
產(chǎn)品詳情

用途

Applications

用水指標(biāo)

Water Indicators

參考標(biāo)準(zhǔn)

Reference standard

護(hù)膚品、洗發(fā)水、染發(fā)劑、牙膏生產(chǎn)和各種清洗液生產(chǎn)用純水

Purewater for Skin-care products, shampoo, hair   dyes, toothpaste production and a variety of cleaning fluid

電導(dǎo)率≤2μs/CM

Electric conductivity ≤2μs/CM

飲用純凈水標(biāo)準(zhǔn)（GB17324-98）

Purified drinking water standards（GB17324-98）

 

醫(yī)用純化水標(biāo)準(zhǔn)（GMP2010版）

Medical standards for purified water（GMP2010version）

超純材料和超純化學(xué)試劑

石英、硅材料生產(chǎn)、加工、提純

電子半導(dǎo)體、集成電路板上用到的化工材料

Ultra-pure materials and ultra-pure chemical reagents

Quartz, silicon material production, processing, purification

Electronic semiconductors, integrated circuit boards used in chemical   materials

電阻率15 ~18.25 MΩ.CM

Resistivity 15 ~18.25 MΩ.CM

我國(guó)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)指標(biāo)GB11446-1-1997

Electronic-grade water quality technical indicators of Chinese standard GB11446-1-1997

 

美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)

The U.S. semiconductor industrial pure water indicators

普通化工材料的生產(chǎn)和加工過(guò)程所用的溶劑及清洗過(guò)程

Common chemical material production and dissolvent in the processing and rinsing  process

電導(dǎo)率≤10μs/CM

Electric conductivity≤10μs/CM

飲用純凈水標(biāo)準(zhǔn)（GB17324-98）

Purified drinking water standard (GB17324-98)

實(shí)驗(yàn)室和中試車(chē)間

Lab and pilot plant

電阻率15 ~18.25 MΩ.CM）

Resistivity 15 ~18.25 MΩ.CM

實(shí)驗(yàn)室高純水標(biāo)準(zhǔn) GB 6682-92

Lab high-water standards( GB 6682-92)

高純墨水、傳真打印機(jī)中的噴墨、納米墨水

Purity ink, fax, printer inkjet, nano-ink

電阻率15 ~18.25 MΩ.CM）

Resistivity 15 ~18.25 MΩ.CM

我國(guó)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)指標(biāo)GB11446-1-1997

Electronic-grade water quality technical indicators of Chinese standard GB11446-1-1997

美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)

The U.S. semiconductor industrial pure water indicators

主要工藝流程和出水指標(biāo)：

Main technical process   and standard of output water：

◆ 預(yù)處理+一級(jí)反滲透（電導(dǎo)率≤10μs/CM）

Pre-treatment+ one stage reverse osmosis system (electric conductivity≤10μs/CM）

◆ 預(yù)處理+二級(jí)反滲透（電導(dǎo)率≤2μs/CM）

Pre-treatment+ double stage   reverse osmosis system (electric conductivity≤2μs/CM）

◆ 預(yù)處理+反滲透+離子交換器（電阻率≥15MΩ.CM）

Pre-treatment+ stage reverse osmosis system+ion exchange (electric   conductivity≥15MΩ.CM）

◆ 預(yù)處理+一級(jí)反滲透+EDI（電阻率≥15MΩ.CM）

Pre-treatment+ stage reverse osmosis system+EDI (electric conductivity≥15MΩ.CM）

◆ 預(yù)處理+二級(jí)反滲透+EDI +拋光混床（電阻率≥18.25MΩ.CM）

Pre-treatment+ double stage reverse osmosis system+EDI +polishing mixed   bed (electric conductivity≥18.25MΩ.CM）

詳細(xì)工藝需根據(jù)原水水質(zhì)及產(chǎn)水要求情況進(jìn)行設(shè)計(jì)

The detailed process shall be designed according to the raw water   quality and water production requirements


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